Grupo de Materiais Funcionais – MATE (Laboratório de Filmes Finos e Superfícies)

Equipamento	Resumo	Tecnicas:	Especificações
SPR – BI2000	O SPR utiliza o princípio de ressonância de plásmons de superfície pela configuração de Kretschmann para a detecção de moléculas adsorvidas na superfície de um substrato metálico.		• Unidade de detecção de SPR de dois canais; • Sistema de Injeção de Fluxo; • Bomba de seringa de precisão; • Compatível com aplicações de eletroquímica; • Sensibilidade (<10-4 graus) para moléculas grandes e pequenas (<100 Daltons) permite aos usuários medir constantes de ligação de alguns pM-1; • Software de Controle / Análise.
Potenciostato Portátil IVIUM	O potenciostato é um instrumento fundamental em sistemas eletroquímicos, capaz de aplicar um potencial e medir a corrente resultante. Trata-se de uma versão avançada de uma fonte de alimentação, amplamente utilizado em pesquisas científicas para estudar reações eletroquímicas. Esse equipamento permite controlar as reações por meio do potencial elétrico aplicado, funcionando como a força motriz dessas reações. As áreas de pesquisa que frequentemente utilizam o potenciostato incluem eletroquímica, corrosão, baterias, células a combustível, eletroanalítica e sensores.	•Eletroquímica Voltamétrica: Técnicas como Voltametria Cíclica, Linear e de Pulso Diferencial para estudo de reações redox. •Criação de Filmes Eletroquímicos: Síntese e caracterização de filmes finos via deposição eletroquímica.Polarização •Potenciostática e Galvanostática: Controle preciso do potencial ou corrente durante experimentos.	• Módulo potenciostático e galvanostático; • Range de Corrente 0 – 1 A; • Resolução de Corrente 0.1 pA ; • Tensão Máxima 4V
Periféricos	O laboratório é equipado com diversos dispositivos periféricos essenciais para a realização de pesquisas.		•Fontes de Tensão/Corrente; •pHmetro; •Multímetros (2); •Balança de precisão; •Aquecedores e Agitadores Magnéticos; •Capelas (2); •Banho em Ultrassom; •Dessecadores; •Estufa.
Oficina Completa	O laboratório possui uma sala com uma completa oficina, possuindo as mais diversas ferramentas necessárias para manutenção, criação e desenvolvimento de equipamento.
Microscópio de Ponta de Prova – AFM	A microscopia de força atômica (AFM) permite a análise de superfícies com resolução atômica, sendo uma das técnicas de microscopia de varredura por ponta de prova (SPM).	•Microscopia de Força Atômica (AFM): Técnica que permite a obtenção de imagens em alta resolução da topografia de superfícies a nível atômico. •Modos de Operação: Contato, sem contato, tapping (intermitente). •Espectroscopia de Força: Mede interações de força entre a ponta e a amostra. •Medição de Rugosidade: Avaliação quantitativa da rugosidade da superfície.	• 5 scanners com diferentes resoluções; • Modo contacto e não-contacto (AAC/MAC); • Modo CS-AFM; • Caracterização in-situ; • Ambiente electroquimico.
Forno Térmico Tubular	O forno tubular é utilizado para o tratamento térmico de amostras, que são acondicionadas em tubos de quartzo. Durante o tratamento, é possível introduzir um fluxo de gases como Nitrogênio, Argônio ou Oxigênio.	•Tratamento Térmico: Utilizado para a sinterização, recozimento, ou calcinação de materiais. •Atmosferas Controladas: Permite o uso de diferentes atmosferas de gás (inert, oxidante, redutora) durante o tratamento térmico. •Programação de Ciclos de Temperatura: Configuração precisa de rampas de aquecimento e resfriamento.	• Controlador automático de tempo e temperatura com mostrador digital; • Distribuição uniforme do calor; • Atinge temperaturas de até 1100°C; • 10 diferentes programas, sendo possível criar rampas e patamares variados; • Tubos com ambiente controlado;
Evaporadora térmica por feixe de elétrons EV-90	Sistema de deposição física de vapor (PVD) por feixe de elétrons. Na evaporação do feixe de elétrons os vapores necessários para a deposição são obtidos a partir do foco de um feixe de elétrons energético no cadinho contendo o material que se deseja depositar e aquecendo-o até atingir seu ponto de evaporação.	•Deposição por Feixe de Elétrons (E-Beam Evaporation): Técnica de deposição de filmes finos onde um feixe de elétrons vaporiza o material de origem para formar uma camada sobre o substrato. •Controle de Taxa de Deposição: Permite ajustes finos da taxa de deposição de material. •Coating Multicamadas: Capacidade de depositar várias camadas de diferentes materiais.	• Canhão de elétrons com 3kW; • Shutter pneumático; • Pressão de trabalho ~ 1E-8 até 2E-6 torr; • Possibilidade de 3 alvos para E-beam; • Cristal de Quartzo para controle de espessura (res: 0.1 A).
Criostato 10K Janis CCR	Sistema de refrigeração de ciclo fechado (CCR) com janela ótica, utilizado para caracterização elétrica e magnetoelétrica, com variação de temperatura de 8 a 350K.		• Multímetro modular Agilent U2741; • Fonte de corrente modular Agilent U2722; • Gerador de função modular Agilent U2761; • Data Aquisition Agilent; • Pico Amperimetro Keithley 485; • Lock-in Stanford SR830; • Controlador de Temperatura LakeShore 331.
Blade Coater BCC-02	O Blade Coater BCC-02 é um equipamento de laboratório para deposição de filmes finos, capaz de produzir filmes com excelente uniformidade e alta repetibilidade, com espessuras variando de 10 nm até dezenas de micrômetros.	•Revestimento por Lâmina (Blade Coating): Técnica de deposição de filmes finos uniformes utilizando uma lâmina para espalhar o material sobre o substrato. •Controle de Espessura do Filme: Ajuste preciso da espessura do filme através da variação da altura da lâmina e da velocidade de revestimento. •Aplicação em Filmes Funcionais: Usado na deposição de filmes finos em dispositivos optoeletrônicos e fotovoltaicos.	• Área de deposição: até 70 x 70 mm; • Velocidade de deposição de 0,5 até 40 mm/s; • Resolução de 1 mm/s para altas velocidades; • Resolução de 0,1 mm/s para baixas velocidades; • Base com aquecimento até 150ºC (resolução 1ºC);